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箱式气氛炉
发布时间:2024-10-25 浏览:383次
在华芯片半导体出口限 制大背景下,昊特(洛阳)炉业有限责任公司坚持自主创新,每年在研发投入了巨大的资源,攻克核心技术,下面给大家介绍一台真空气氛型箱式炉。
加热元件:硅钼棒
烧成温度:空气气氛使用温度1650度
氮气气氛使用温度1550度
参数信息:
气路控制:
使用真空置换炉内氧气含量不高于50ppm可通过曲线设定真空置换,真空度和进气量单独可调,
烧成能力:100KG/炉
有效烧结尺寸:500*500*500mm
外形尺寸(约):1700*1700*2300mm
温度均匀性:士5度
冷却方式:水冷
测温方式:2支B型热电偶温度监控并记录
进气方式:设有氮气质子流量计自动控制进气流量,较大100L/min
压力控制:炉内压力可根据设定自动调节控制,保证炉压稳定性
控制方式:PLC+触摸屏控制方便操作与观察(选配)
优势:
体积小巧,适用于实验室、研究所和大学做研究
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